产品介绍
NF-300H TEOS
PECVD设备
产品介绍
NF-300H TEOS 设备为自主研发的产品，主要应用于沉积时间需求长的薄膜工艺，在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破，设备性能指标达同类产品水平。
产品特点
NF-300H TEOS
PECVD设备
产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换
- 可满足沉积时间需求长的薄膜工艺
- 满足300-600℃高温沉积需求
- PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能
- 通过S2安全认证
