拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。
公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。
公司已形成一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累，公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。
公司总部坐落于沈阳市浑南区，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房，总建筑面积达40,000平方米。目前公司生产能力可以满足生产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证，并拥有覆盖全球的供应商网络。
拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。
