产品介绍

        光刻工艺中，驻波效应和界面反射干扰直接制约图形分辨率， DARC 薄膜的厚度均匀性与光学稳定性，决定曝光效果与图形一致性。PF-300T Plus uX 是一款聚焦抗反射涂层（DARC）沉积需求的 PECVD 设备，通过对薄膜厚度、折射率及组分结构的精准调控，抑制驻波效应、降低界面反射，实现高均匀性、高稳定性的抗反射涂层沉积。该设备兼容性强，无需更换硬件即可实现多种薄膜的快速切换与宽范围参数调节，有效简化工艺流程、降低客户运营成本。

产品特点
        - 薄膜均匀性可达到< 0.5%，良好的薄膜稳定性和重复性
        - 高机械产能晶圆传输平台，产能＞200片/小时
        - 加热盘自动水平调整功能
        - 特殊电极设计，有效降低等离子体边缘效应
        - 可选配双区 ESC 加热盘，支持翘曲晶圆稳定沉积