产品介绍

        PF-300M Supra-D 是面向高标准量产打造的新一代 PECVD 高端产品，基于串联式高产能平台，可搭载5个两站独立反应腔。腔体采用双腔分离设计，配合专属独立 RPS 系统，清洁效率与工艺稳定性同步提升；腔体小型化设计进一步降低工艺气体消耗及 CoO。加热盘集成 Auto Leveling 自动找平功能，实时补偿晶圆表面翘曲，薄膜稳定性、均匀性、颗粒度表现优异。设备可稳定完成氧化硅/氮化硅叠层、OPN、SiB/SiBN、SiN、TEOS、ACHM 等多类高质量介质薄膜沉积，满足先进制程更严格的工艺指标和量产需求。平台可兼容 pX、PEALD Astra 等不同工艺腔体，支持更多工艺组合和器件类型。

产品特点
        - 双腔分离设计提升工艺可控性，优异的颗粒控制及薄膜均匀性
        - 专属独立 RPS 系统，大幅提升Clean效率和产能表现
        - 腔体小型化进一步降低工艺气体消耗及 CoO
        - 串联式高产能平台，可搭配5个两站独立反应腔，实现产能的优化配置