产品介绍

        PF-300T SAF 是一款次常压化学气相沉积（SACVD）设备，聚焦关键介质填充，主要应用于浅沟槽隔离（STI）、预金属介质层层间介质 （PMD/ILD）等工艺。产品采用 O₃/TEOS 热化学沉积，针对复杂沟槽与间隙结构，可沉积高质量的 TEOS SiO₂ 和 BPSG 薄膜，实现无空洞介质填充，搭载 PF-300T 高产能平台，兼顾薄膜质量与量产能力。

产品特点
        -高质量的 TEOS SiO2 和 BPSG 工艺
        -双驱控温加热盘，满足不同厚度均匀性的需求
        -可按客户需求配置多路液态源
        -可搭载1~3个反应腔