产品介绍

        NF-300H 是一款拥有3个6站反应腔的高产能 PECVD 设备，是首款成功导入传感器 (CIS) 量产产线的国产沉积设备，主要应用于 CIS 和 HBM 的超厚介质填充。设备支持高温工艺, 可实现长时间沉积需求的薄膜工艺，具备良好的颗粒控制能力，所沉积薄膜在均匀性和应力控制方面表现优异，在量产产能、工艺稳定性等多项关键指标上实现技术突破，达到国际同类设备先进水平。

产品特点
        - 适配沉积时间需求长的薄膜工艺
        - 具备良好的颗粒控制和应力控制能力
        - 高产能平台可以同时搭载3个6站反应腔